光學玻璃拋光方法：

浴法拋光：浴法拋光是指工件和拋光盤都浸在拋光液中，所用裝置示意圖拋光液的深度以設備靜止時淹沒工件 10～15mm 為宜，攪拌器是使拋光液處于懸浮狀態，不產生沉淀，拋光玻璃時一般使用氧化鐵(紅粉)、氧化鋁等拋光材料。

離子束拋光：離子束拋光是玻璃工件在傳統拋光后，用來進一步提高拋光精度的補充拋光方法。先在真空(1.33Pa)條件下，將惰性氣體(氬、氪、氙等)原子使用高頻或放電等方法使之成為離子，再用20～25kV的電壓加速，然后碰撞到位于1.33×10 Pa真空度的真 空室內的被加工工件表面上，將能量直接傳給工件材料原子，使其逸出表面而被去除。這種方法可以使工件去除厚度達10～20μm，是典型的用物理碰撞方法進行的拋光技術，一般情況下表面粗糙度可達0.01μm，精度高的達0.6nm。

等離子體輔助拋光：等離子體輔助拋光是利用化學反應來去除表面材料而實現拋光的方法，采用特定氣體，制成活性等離子體，當活性等離子體與工件表面作用，發生化學反應，生成易揮發的混合氣體，從而將工件表面材料去除。由于玻璃研磨時，機械作用是主要的，所以磨料的硬度必須大于玻璃的硬度。 光學玻璃和日用玻璃研磨加工余量大，所以一般用剛玉或天然金剛砂研磨效率高。平板玻璃的研磨加工余量小，但面積大，用量多，一般采用價廉的石英砂。

 
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